【中文科技資訊】12月27日消息，根據韓媒 ETNews 報道，SK海力士公司成功研發出了一項革命性的CMP拋光墊技術，該技術不僅在降低成本方面展現出巨大潛力，更在環境、社會和治理(ESG)管理方面取得了重要進展。
韓國半導體行業的這一重大突破，為整個行業帶來了前所未有的變革。SK海力士指出，這種新型CMP拋光墊的獨特之處在于其可重復使用性。他們計劃首先將這項技術應用于低風險工藝環節，隨后逐步推廣至更廣泛的應用場景。
據中文科技資訊了解，CMP技術主要通過化學與機械的雙重作用，達到提升材料表面平整度的目的。在這一過程中，拋光墊發揮著關鍵作用：它不僅幫助拋光液在加工區均勻分布，還負責移除拋光過程中產生的殘留物，并傳遞必要的機械載荷以維持所需的化學和機械環境。此外，拋光墊的表面組織特征，例如微孔形狀、孔隙率、溝槽形狀等，也在影響拋光效率和平坦性方面發揮著重要作用。
SK海力士采用的CMP拋光墊表盤紋理重建方法，正是這項技術的核心，確保了拋光墊的可重復使用性。這一技術的成功，將減少對國外CMP拋光墊產品的依賴，這對于韓國半導體行業的自主發展具有深遠意義。目前韓國大約70%的CMP拋光墊需依賴進口，SK海力士的這一創新將為國內產業帶來更多自主性和競爭力。
