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SK海力士尋求EUV光刻機(jī)出口解禁,助力無錫工廠技術(shù)升級

   時(shí)間:2024-01-15 12:25 來源:中文科技資訊

【中文科技資訊】1月15日消息,據(jù)業(yè)界消息人士透露,韓國半導(dǎo)體巨頭SK海力士正積極尋求突破美國對華的極紫外(EUV)光刻機(jī)出口限制,旨在提升其位于中國的半導(dǎo)體制造工廠的技術(shù)實(shí)力。

隨著全球半導(dǎo)體市場的逐步回暖,以及中國在高性能半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的顯著進(jìn)步,SK海力士等韓國芯片制造商正通過多種途徑努力提升在華生產(chǎn)設(shè)施的工藝水平。據(jù)知情人士稱,SK海力士有意將其位于無錫的重要生產(chǎn)基地的部分DRAM生產(chǎn)設(shè)備升級至第四代10納米工藝,以應(yīng)對市場需求的增長和技術(shù)競爭的加劇。

然而,對于市場上傳出的無錫工廠技術(shù)升級的消息,SK海力士官方表示,目前無法具體透露工廠的詳細(xì)運(yùn)營計(jì)劃。無錫工廠對SK海力士而言具有舉足輕重的地位,其產(chǎn)量占據(jù)了公司DRAM總產(chǎn)量的高達(dá)40%的份額。目前,該工廠主要負(fù)責(zé)生產(chǎn)兩款較為成熟的10納米DRAM產(chǎn)品。

業(yè)內(nèi)分析認(rèn)為,SK海力士在推進(jìn)無錫工廠技術(shù)升級方面面臨著不小的挑戰(zhàn)。自2019年以來,美國為遏制中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,一直對出口至中國的EUV光刻機(jī)實(shí)施嚴(yán)格限制,這無疑增加了SK海力士等企業(yè)在華升級生產(chǎn)技術(shù)的難度。

盡管如此,SK海力士似乎認(rèn)為,在全球半導(dǎo)體市場復(fù)蘇的大背景下,高性能芯片產(chǎn)能的擴(kuò)張已成為迫在眉睫的任務(wù)。為此,公司需要借助10納米級第四代DRAM或更先進(jìn)的產(chǎn)品來鞏固和拓展市場份額。

據(jù)中文科技資訊了解,SK海力士的上述舉動不僅反映了全球半導(dǎo)體市場的動態(tài)變化,也凸顯了中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在全球產(chǎn)業(yè)鏈中的重要地位。隨著中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的持續(xù)升級和發(fā)展,全球半導(dǎo)體市場有望迎來更加繁榮和多元化的新時(shí)代。

 
 
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